半導體模塊生產(chǎn)線通用化學循環(huán)系統(tǒng)技術(shù)

發(fā)布日期：2023-05-29      瀏覽次數(shù)：918

半導體模塊生產(chǎn)線通用化學循環(huán)系統(tǒng)技術(shù)

在半導體模塊制造過程中，生產(chǎn)過程中的溫度控制是影響器件質(zhì)量和性能特征以及精細度和小型化的重要因素。

清潔和溫度控制

RCA 清潔技術(shù)用于清潔半導體晶圓和 FPD（平板顯示器）已有 30 多年的歷史。 在此清洗過程中，需要對清洗介質(zhì)液體進行高精度的溫度控制控制。

利用我們40多年的溫度控制經(jīng)驗，我們使用PID型熱模塊（帕爾貼）控制器，加熱器控制器，鹵素加熱器控制器等提供恒溫（精度為1/10°C）的恒溫（±精度為<>/<>°C）循環(huán)流體系統(tǒng)。 下面介紹一下蘇阿庫拉特系統(tǒng)提供的元素技術(shù)背景。

RCA 清潔技術(shù)

RCA清洗用于用NH4OH（氫氧化銨）和HC l（鹽酸）和H2O2（ SC-1用過氧化氫水溶液洗滌），然后用HCl（鹽酸）和H 2 O 2的水溶液洗滌SC-2。 兩者都通過將晶圓浸入溫度為75~80°C的熔融石英容器中來洗滌。 SC-1清洗具有溶解和去除有機物和剝離不溶性顆粒的作用。 此外，SC-2清洗具有去除金屬離子污染物的作用。 這種RCA清洗已成為半導體清洗方法的標準，并已被世界各地的半導體制造商廣泛使用超過40年。

未來的晶圓清洗技術(shù)“純水/微氣泡循環(huán)液"

通過在用于恒溫循環(huán)液體的循環(huán)泵中增加微氣泡發(fā)生系統(tǒng)，我們提供了一種可以取代傳統(tǒng)RCA清潔技術(shù)的技術(shù)。

半導體（集成電路）也被稱為工業(yè)大米，可以說是支撐現(xiàn)代社會最重要的電子元件。 在這種生產(chǎn)中，使用了一種稱為光刻的技術(shù)，并使用光敏有機物質(zhì)（光刻膠）在硅等基板上形成圖案的同時抽出電子電路。 清潔是這一過程中非常重要的過程之一。 清洗對象是基材上的有機物和金屬， 顆粒符合條件。 還使用了使用等離子體的干法，但就可靠性和易于處理而言，使用水作為介質(zhì)的濕法已成為清潔的主流。 在濕法中，在最后的漂洗階段使用了大量的超純水，但清洗介質(zhì)只是一種強大的化學溶液。 特別是硫酸絕緣（SPM：硫酸+過氧化氫/ 150°C）用于去除有機物。 這種化學溶液 雖然它具有很強的清潔能力，但在廢液處理和安全性方面存在問題，因此開發(fā)不使用化學品的清潔方法被認為是一種夢想的技術(shù)。 微氣泡是直徑小于50μm的氣泡，其特征是在水中收縮并最終消失。 此時，通過氣液界面的作用產(chǎn)生活性物質(zhì)。 特別是當使用臭氧微氣泡時，大量的羥基 我們發(fā)現(xiàn)了產(chǎn)生自由基（?OH）的現(xiàn)象。 由于羥基自由基是強大的氧化劑之一，AIST已經(jīng)建立了一種使用它們有效處理持久性有機廢水的技術(shù)1~4）。 自2000年左右以來，一些半導體公司一直在研究使用微氣泡進行半導體清潔。 然而，這是一次沒有抓住邁克·羅布爾特征的嘗試，也沒有成功。 不。 因此，AIST利用其在廢水處理方面的經(jīng)驗。 * 郵箱 ： m.taka@aist.go.jp 同時與許多公司和經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省等合作和支持。 氣泡是直徑小于50μm的氣泡。 它的特點是它在水中收縮并最終消失。 此時，通過氣液界面的作用產(chǎn)生活性物質(zhì)。 特別是當使用臭氧微氣泡時，大量的羥基 我們發(fā)現(xiàn)了產(chǎn)生自由基（?OH）的現(xiàn)象。 由于羥基自由基是強大的氧化劑之一，AIST已經(jīng)建立了一種使用它們有效處理持久性有機廢水的技術(shù)。 1~4）。 在我們公司，自2000年左右以來，一些半導體公司一直在研究微氣泡發(fā)生系統(tǒng)的原型開發(fā)。 然而，這是一次沒有抓住邁克·羅布爾特征的嘗試，也沒有成功。 不。 因此，AIST利用其在廢水處理方面的經(jīng)驗。 * 郵箱 ： m.taka@aist.go.jp 同時與許多公司和經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省等合作和支持。 氣泡是直徑小于50μm的氣泡。 它的特點是它在水中收縮并最終消失。 此時，通過氣液界面的作用產(chǎn)生活性物質(zhì)。 特別是當使用臭氧微氣泡時，大量的羥基 我們發(fā)現(xiàn)了產(chǎn)生自由基（?OH）的現(xiàn)象。 由于羥基自由基是強大的氧化劑之一，AIST已經(jīng)建立了一種使用它們有效處理持久性有機廢水的技術(shù)1~4）。 自2000年左右以來，一些半導體公司一直在研究使用微氣泡進行半導體清潔。 然而，這是一次沒有抓住邁克·羅布爾特征的嘗試，也沒有成功。 不。 因此，AIST利用其在廢水處理方面的經(jīng)驗。 * 郵箱 ： m.taka@aist.go.jp 同時與許多公司和經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省等合作和支持。 氣泡是直徑小于50μm的氣泡。 它的特點是它在水中收縮并最終消失。 此時，通過氣液界面的作用產(chǎn)生活性物質(zhì)。 特別是當使用臭氧微氣泡時，大量的羥基 我們發(fā)現(xiàn)了產(chǎn)生自由基（?OH）的現(xiàn)象。 由于羥基自由基是強大的氧化劑之一，AIST已經(jīng)建立了一種使用它們有效處理持久性有機廢水的技術(shù)1~4）。 自2000年左右以來，一些半導體公司一直在研究使用微氣泡進行半導體清潔。 然而，這是一次沒有抓住邁克·羅布爾特征的嘗試，也沒有成功。 不。 因此，AIST利用其在廢水處理方面的經(jīng)驗*電子郵件：m.taka@aist.go.jp 同時獲得了許多公司和經(jīng)濟，貿(mào)易和工業(yè)部等的合作和支持。

循環(huán)系統(tǒng)構(gòu)建的基本技術(shù)

低溫恒溫液體循環(huán)系統(tǒng)

熱模塊（帕爾貼）驅(qū)動系統(tǒng)：PWM 驅(qū)動和模擬驅(qū)動系統(tǒng)

溫度控制方式：PI控制或PID控制




高溫液體循環(huán)系統(tǒng)

加熱器控制器、鹵素加熱器控制器等

 

PC控制多通道多肉機系統(tǒng)同時運行

配備RS-485/8種編程內(nèi)部存儲器（溫度循環(huán)步數(shù)：10步）



化學循環(huán)室

適用循環(huán)液：純水（去離子水）/氫氟酸/氨水過氧化氫等。

腔室材料：氟樹脂/石英玻璃/

帕爾貼控制器/熱模塊控制器

使用一臺 PC 控制多通道（最多 24 通道擴展）環(huán)行器系統(tǒng)