光學薄膜的特點及測厚檢測設備介紹

發布日期：2022-03-25      瀏覽次數：1939

光學薄膜的特點及測厚檢測設備介紹

由薄的分層介質構成的，通過界面傳播光束的一類光學介質材料。光學薄膜的應用始于20世紀30年代。現代，光學薄膜已廣泛用于光學和光電子技術領域，制造各種光學儀器。

光學薄膜的特點是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割；膜層的折射率在界面上可以發生躍變，但在膜層內是連續的；可以是透明介質，也可以是吸收介質；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實際應用的薄膜要比理想薄膜復雜得多。這是因為：制備時，薄膜的光學性質和物理性質偏離大塊材料，其表面和界面是粗糙的，從而導致光束的漫散射；膜層之間的相互滲透形成擴散界面；由于膜層的生長、結構、應力等原因，形成了薄膜的各向異性；膜層具有復雜的時間效應。



測量方法	非接觸式/光譜干涉儀
測量對象	電子、光學用透明平滑薄膜、多層薄膜
測量原理	光譜干涉儀

產品特點

• 實現高測量重復性（± 0.01 μm 或更小，取決于對象和測量條件）

• 不易受溫度變化的影響

• 可以制造用于研究和檢查的離線型和制造過程中使用的在線型。

• 反射型允許從薄膜的一側測量

• 只能測量透明涂膜層（取決于測量條件）

產品規格

測量厚度	1 至 50 μm（用于薄材料）、10 至 150 μm（用于厚材料）
測量長度	50-5000 毫米
測量間距	1 毫米 ~
小顯示值	0.001 微米
電源電壓	AC100 伏 50/60 赫茲
工作溫度限制	5～45℃（測量時溫度變化在1℃以內）
濕度	35-80%（無冷凝）
測量區域	φ0.6毫米
測量間隙	約 30 毫米